仪器介绍
深度清除载网表面的碳氢化合物污染,提升成像清晰度。与辉光放电仪相比,它的清洗力度更强,专门用于彻底清除有机碳氢化合物污染。
适用范围
TEM/SEM 样品清洗:去除样品表面及样品杆(Holder)上的积碳污染,显著改善高倍率成像质量。
分析性能提升:延长 EDX(能谱)和 EBSD(背散射衍射)的采集时间,防止电子束长期照射产生的污染堆积。
关键技术指标
气体配方:采用独特的 $H_2/O_2$ 混合气体配方,能在不损伤样品结构的前提下高效氧化碳氢化合物。
真空系统:无油真空系统,避免二次污染。
交互界面:交互式触摸屏,支持多种预设清洗程序(最短清洗周期通常 < 2 分钟)。